武汉高德红外二期工业园1号楼深基坑支护设计

工程位于光谷大道和三环线交汇处东北方位的高德红外工业园区内，地下室占地面积约18000平方米，周长约560米。拟建工程包含1#生产大楼(32F）、7#倒班楼、裙房及三层地下室，开挖深度约13.0m。

武汉高德红外二期工业园1号楼深基坑支护设计(缩略图).jpg

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